含核靶成分的物質(zhì)通過(guò)物理氣相沉積或者化學(xué)氣相沉積方法在襯底上成膜，再經(jīng)過(guò)濕法刻蝕實(shí)現(xiàn)膜的剝離，最后撈取在一個(gè)金屬框架（靶框）上，獲得自支撐核靶。
氫硼反應(yīng)原理圖 自支撐硼膜 硼膜形貌
含有被轟擊原子核的實(shí)體稱為核靶，簡(jiǎn)稱靶。自支撐靶是單純由核靶材料組成的一層薄膜靶，用一個(gè)金屬框架（靶框）支撐著，其優(yōu)點(diǎn)是沒(méi)有襯底材料的干擾。在低能核物理、激光核物理、原子核化學(xué)試驗(yàn)中都需要核靶，核靶制備是這些實(shí)驗(yàn)成功與否的關(guān)鍵問(wèn)題之一，尤其是自支撐靶。
新奧科技具有磁控濺射物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積平臺(tái)制備核靶，能夠制備納米級(jí)到微米級(jí)自支撐硼核靶，包括純硼靶、氫硼靶等，已制備了微米級(jí)自支撐硼核靶用于氫硼聚變物理驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)。
新奧科技的氣相沉積方法制備核靶，加熱溫度低、制備周期短、核靶質(zhì)量高、適用范圍廣。